“交替沉积”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果278884个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种交替沉积的光催化剂及其制备方法与应用-CN202110880517.4有效
发明人：郑昭科;刘木;黄柏标;王泽岩;王朋;刘媛媛;程合锋;张倩倩;张晓阳 -专利权人：山东大学
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B01J23/72 文献下载
摘要：本发明公开了一种交替沉积的光催化剂及其制备方法与应用，以二氧化钛纳米片为基材，通过原子层沉积在基材表面交替沉积铜和二氧化钛，每次交替沉积先沉积铜再沉积二氧化钛，交替沉积次数至少两次。本发明能够通过原子层沉积同时增强光催化剂的稳定性和催化活性。
一种交替沉积光催化剂及其制备方法应用

[发明专利]用于刀具的多层复合涂层、刀具及其制备方法-CN201610782688.2有效
发明人：毛昌海 -专利权人：艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： C23C28/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于刀具的多层复合涂层、刀具及其制备方法，所述多层复合涂层，包括周期性交替沉积的多个涂层单元，所述涂层单元包括依次沉积的交替沉积的Cr1‑xAlxN层、Cr1‑yZryN层、ZrN层和Cr1‑yZryN层；其中，0≤x≤0.70，0.30≤y≤0.70；所述方法采用物理气相沉积多靶交替沉积的方法，在刀具本体上分别通过CrAl靶、CrZr靶、Zr靶和CrZr靶交替沉积Cr1‑xAlxN层、Cr1‑yZryN层、ZrN层和Cr1‑yZryN层，得到成周期性交替沉积的Cr1‑xAlxN/Cr1‑yZryN/ZrN/Cr1‑yZryN多层复合涂。
多层复合涂层刀具交替沉积沉积周期性交替涂层单元制备物理气相沉积刀具本体多层复合多靶

[发明专利]一种液气相交替沉积制备高温绝缘薄膜的方法-CN201810761459.1有效
发明人：梁军生;张朝阳;陈亮;王金鹏;王大志 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2018-07-12 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： C23C28/04 文献下载
摘要：本发明一种液气相交替沉积制备高温绝缘薄膜的方法属于先进制造技术领域，涉及一种液相‑气相交替沉积制备高温绝缘薄膜的方法。该方法中交替采用液相沉积和气相沉积步骤，将绝缘材料逐层沉积到待测试件表面。该方法首先配制绝缘材料的液态浆料，接着采用液相沉积方法将液态浆料按照特定厚度沉积到待测试件上，经过烘干和高温烧结，获得第I绝缘层；然后采用气相沉积方法，在第I绝缘层上沉积第II绝缘层；以此类推，多次交替重复液相沉积步骤和气相沉积步骤
一种相交沉积制备高温绝缘薄膜方法

[发明专利]一种酞菁与多金属氧酸盐三阶非线性光学自组装薄膜及其制备方法-CN201410208859.1有效
发明人：周云山;屈宁宁;张立娟;史宗海 -专利权人：北京化工大学
申请日： 2014-05-16 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：该薄膜从下至上由基底、前驱膜和交替沉积层组成；所述前驱膜由聚烯丙基胺盐酸盐层和聚苯乙烯磺酸钠层交替沉积而成，前驱膜最下层为聚苯乙烯磺酸钠层且与基底连接，前驱膜最上层也为聚苯乙烯磺酸钠层且与交替沉积层连接；所述的交替沉积层由多金属氧酸盐层和酞菁层交替沉积而成，其中交替沉积层的最下层为多金属氧酸盐层。本发明通过非水溶剂中的层层自组装的方法交替组装得到酞菁与多金属氧酸盐自组装薄膜，具有较高的稳定性和优异的非线性光学性能。
一种金属氧酸盐三阶非线性光学组装薄膜及其制备方法

[发明专利]一种高附着力金属涂层及其制备工艺-CN202210589200.X在审
发明人：彭欣;曹志嫦;聂二伟;雷敬;石敬分 -专利权人：重庆中光学建设镀膜科技有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种高附着力金属涂层及其制备工艺，包括：基底；打底层，其沉积在所述基底上；金属层，其沉积在打底层上；过渡层，其沉积在金属层上，包括第一过渡层和第二过渡层，使用FCVA法沉积，所述第一过渡层和第二过渡层均包含一种基本元素氮化物或碳化物；功能交替层，其沉积在过渡层上，采用FCVA法沉积，其包含一种基本元素氮化物或碳化物，在第二过渡层表面附着交替设置的功能交替层；功能超硬层，其沉积在功能交替层上，采用FCVA法沉积，其包含一种基本元素氮化物或碳化物
一种附着力金属涂层及其制备工艺

[发明专利]一种低应力强结合高温绝缘涂层的制备方法-CN202310129637.X在审
发明人：姜欣;李延涛;刘茂;曾小康;冷永祥 -专利权人：西南交通大学
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本发明公开的一种低应力强结合高温绝缘涂层的制备方法，本发明应用现有技术的磁控溅射技术制备，包括如下依次进行的步骤，进行镀前处理、进行Ar离子溅射清洗、进行沉积粘结层步骤，通过沉积粘结层步骤获得沉积粘结层、进行贫N氮化硅与富N氮化硅交替多层结构步骤，所述贫N氮化硅与富N氮化硅交替多层结构步骤为通过磁控溅射技术在沉积粘结层表面沉积氮化硅获得贫N氮化硅与富N氮化硅交替多层结构，其中氮化硅应用磁控溅射技术通过Si靶与氮气反应溅射进行沉积获得，在磁控溅射过程中通过周期性改变氮气流量调控相邻两层氮化硅中的氮含量，以获得由贫N氮化硅和富N氮化硅交替构成的多层结构，所述的贫N氮化硅与富N氮化硅交替多层结构可以产生交替的拉应力与压应力的微观力学情况
一种应力结合高温绝缘涂层制备方法

[发明专利]具有陶瓷涂层的切削刀片-CN200880010764.1有效
发明人： M·埃尔考拜;G·格伦曼 -专利权人：伊斯卡有限公司
申请日： 2008-03-06 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：所述多层陶瓷涂层为交替子层的分层结构，所述交替子层是氧化物材料与和该氧化物材料具有良好粘附力的第二材料的界面层的交替层。所述陶瓷涂层通过化学气相沉积而沉积；每一随后沉积的界面层用于中断前一沉积的氧化物材料子层，并用作随后氧化物材料子层的沉积用表面。所述第二材料是所述氧化物材料的至少一种元素在硬质材料中的固溶体。
具有陶瓷涂层切削刀片

[发明专利]含TiAlN层和CrAlN层的复合涂层刀具及其制备方法-CN201110176499.8无效
发明人：陈利;李佳;吴明晶;王社权;谢宏;王大辉 -专利权人：株洲钻石切削刀具股份有限公司
申请日： 2011-06-28 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种含TiAlN层和CrAlN层的复合涂层刀具，包括刀具基体和刀具基体上沉积的复合涂层，该复合涂层中包含有一交替沉积TiAlN层和CrAlN层的多周期涂层，其制备方法包括以下步骤：首先可选择性地采用物理气相沉积工艺在刀具基体上依次沉积TiAl金属层和TiAlN过渡层，再在TiAlN过渡层上采用物理气相沉积工艺交替沉积TiAlN层和CrAlN层；交替沉积TiAlN层和CrAlN层是指以依次沉积TiAlN层-CrAlN层或依次沉积CrAlN
tialn craln 复合涂层刀具及其制备方法

[实用新型]一种in-line真空沉积系统-CN202221486271.9有效
发明人：王树林;曹建伟 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2022-06-14 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种in‑line真空沉积系统，属于沉积系统技术领域，沉积系统包括：沉积机构；上料机构，所述上料机构设置在沉积机构的前端，且所述上料机构和沉积机构连接；以及下料机构，所述下料机构设置在沉积机构的后端，且所述下料机构和沉积机构连接；其中，所述上料机构和下料机构均设置有多组，通过多组上料机构为沉积机构交替上料，通过多组下料机构为沉积机构交替下料；达到沉积系统的产量提高的技术效果。
一种 in line 真空沉积系统

[发明专利]一种轻质高强复合材料及其制备方法-CN202310152259.7在审
发明人：刘军;王臻 -专利权人：中南大学
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： B22F7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种轻质高强复合材料，包括交替沉积的陶瓷沉积层和金属沉积层，所述金属沉积层由金属颗粒经激光熔化沉积而成，所述陶瓷沉积层由陶瓷颗粒经激光熔化沉积而成，且所述陶瓷沉积层表面与金属沉积层表面通过瞬时液相扩散连接本发明的轻质高强复合材料，采用激光熔化沉积工艺交替沉积金属沉积层和陶瓷沉积层制备得到，实现了陶瓷‑金属一体化结构成型，在轻量化的同时具有良好的刚性和延展性。本发明还提供一种轻质高强复合材料的制备方法。
一种高强复合材料及其制备方法

[发明专利]一种多层薄膜的沉积方法-CN201010191763.0有效
发明人：赵彦辉;肖金泉;郎文昌;于宝海;华伟刚;高立军 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2010-06-04 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明属于金属材料表面沉积超硬多层涂层技术领域，具体为一种钛/氮化钛多层薄膜的沉积方法，解决了普通电弧离子镀沉积多层薄膜时单元层厚度波动较大的问题。该方法包括如下步骤：(1)通过交替通入气体，精确控制气体流量和时间；(2)采用电弧离子镀技术在工件表面沉积金属/金属氮化物多层薄膜。采用气体质量流量控制器实现多路气体氩气和氮气的交替通入，且实现气体流量和气体交替通入时间的精确控制，设定气体流量值及对应的沉积时间，可实现60层多层薄膜的沉积。本发明所涉及的气体流量交替控制技术可以保证多层涂层的单元层厚度和质量得到有效控制，大大提高了多层薄膜单元层厚度的控制精度，可以有效改善多层薄膜的性能。
一种多层薄膜沉积方法

[发明专利]一种化学气相沉积炉的支承装置-CN201810882209.3在审
发明人：南志华;翟雨佳;刘平;陈锐;侯振华;李文红;朱佰喜 -专利权人：深圳市石金科技股份有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开一种化学气相沉积炉的支承装置，包括用于交替对基体进行支承的交替支承机构，所述交替支承机构包括至少两组支承件和用于驱动支承件交替支承基体的交替驱动机构；其中，所述交替驱动机构包括至少两个滑槽以及驱动支承件在滑槽中移动的动力机构；所述滑槽包括支承段和交替段，所述交替段的高度低于支承段的高度；当支承件的下端移动至支承段时，其上端支承在基体的下端面，当支承件的下端移动至交替段时，其上端远离基体；工作时，至少有一组支承件位于支承段上本支承装置不但可以支承质量大小不同的基体，且支承处不会产生无薄膜的缺口，使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜，提高沉积质量，降低生产成本。
支承件支承段支承支承装置交替段滑槽化学气相沉积炉交替驱动支承机构上端下端沉积薄膜移动驱动动力机构基体表面支承基体下端面两组

[发明专利]生产多层隔离层的快速方法-CN03127556.7有效
发明人： M·比克尔;S·贝赫勒;L·克利普;A·鲁特林豪斯－汉高;G·阿诺德 -专利权人：肖特·格拉斯公司
申请日： 2003-08-07 - 公布日： 2004-12-08 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种通过化学蒸气沉积施加交替层的方法，其包括下述工艺步骤：在底材上沉积粘合促进剂层，和施加无机隔离层，其中交替沉积包括有机和无机材料的交替层，在该方法中，施加粘合促进剂层的涂布时间为0.05
生产多层隔离快速方法

[发明专利]超硬纳米多层薄膜及其制作工艺-CN99124104.5无效
发明人：李戈扬;许俊华;金燕苹;戴嘉维;顾明元 -专利权人：上海交通大学
申请日： 1999-11-24 - 公布日： 2003-08-13 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明在金属或陶瓷的基体上利用反应溅射沉积法制取NbN层和TaN层多层薄膜，根据使用求交替制取NbN层和TaN层。多层薄膜制取工艺为：首先将金属或陶瓷的基体表面作镜面抛光处理，利用反应溅射沉积法制取多层薄膜，交替制取NbN层和TaN层，各层厚度控制在1.5nm～9.0nm，且厚度比为1，交替沉积多层薄膜总厚度为1μm
纳米多层薄膜及其制作工艺

[发明专利]一种棋盘交替式软硬复合涂层的制备工艺-CN202310813129.3在审
发明人：张志慧;邓建新;王冉 -专利权人：山东大学
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C25D5/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种棋盘交替式软硬复合涂层的制备工艺，属于减摩涂层领域。本发明在织构化基体表面利用电射流喷射沉积法沉积一层均匀的ZrO2硬涂层作为过渡层，之后在方孔掩膜板的辅助下逐块交替沉积ZrO2和MoS2涂层块，形成紧密排列的棋盘交替式涂层，最后在其表面沉积一层均匀的MoS2润滑层。沉积完成后置于真空烧结炉中高温致密化处理，得到棋盘交替式软硬复合涂层。本发明实现了软硬涂层紧密有序排列的棋盘交替式软硬复合涂层的加工成型，能同时复合多种材料并减小了涂层厚度，增强了软、硬涂层之间的结合强度，能充分发挥软硬涂层的协同效应，具有生产周期短、绿色环保的特点。
一种棋盘交替软硬复合涂层制备工艺

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条